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- [实用新型]清洗台-CN201520313072.1有效
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杨志亮
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昆山本瑞家具有限公司
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2015-05-15
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2015-10-28
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E03C1/32
- 本实用新型公开了一种清洗台，其技术方案要点是：包括支架，所述支架包括清洗台面，所述清洗台面上设有清洗口，所述清洗口内容纳有清洗池，所述清洗池包括池体和外翻边，所述池体内形成有清洗腔，所述外翻边设置于所述清洗台面的下表面，所述清洗台下表面设有用于固定所述外翻边的固定板，所述固定板一端为压合端，另一端为抵接端，所述外翻边夹持于所述清洗台面的下表面与压合端之间，所述抵接端抵接于所述清洗台面的下表面。本实用新型解决了现有的清洗台中清洗池与工作台面连接不牢固，清洗台不能够保持清洁、干燥，以及清洗池与清洗口的适配性差的问题。
- 清洗
- [实用新型]清洗台-CN202320249673.5有效
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白桂芬
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青岛矢车菊设计有限公司
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2023-02-17
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2023-04-28
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E03C1/04
- 本申请涉及一种清洗台，其中包括流体存储容器与洗手池，洗手池可拆卸地设于流体存储容器的顶面，洗手池上设有至少一个出水口，洗手池的侧壁设有卡接结构，流体存储容器的下部设有脚踏机构，脚踏机构与出水口以及流体存储容器管接，流体存储容器上还设有一拉杆，拉杆上设有支撑结构，通过卡接结构配合支撑结构使洗手池稳定在不同的高度；本申请通过将可拆卸的洗手池装在支撑结构上来调节高度，结构精简的同时又可以解决不同身高人群对于清洗台的高度需求不一致的问题
- 清洗
- [实用新型]玻璃清洗台-CN201420656934.6有效
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邱惊龙
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睿志达光电(深圳)有限公司
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2014-11-05
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2015-04-22
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B08B3/04
- 本实用新型涉及玻璃加工辅助工具技术领域，尤其涉及玻璃清洗台，其包括有承载台架，承载台架顶部设有用于清洗玻璃的清洗槽，清洗槽顶部边缘的两侧分别连接有向外侧延伸的倾斜台面、水平台面，倾斜台面以远离清洗槽的一侧高、连接清洗槽的一侧低的方式倾斜设置，承载台架上位于倾斜台面下端的上方设有沿前后方向设置的挡杆，本实用新型的清洗槽能够清洗玻璃，水平台面能够用于临时放置承载清洗前的玻璃，而清洗后的玻璃放在倾斜台面上，玻璃清洗方便，倾斜台面使得玻璃上残留的水会自动沿着倾斜台面流回清洗槽中，防止玻璃上残留的水滴到地上而影响加工环境，并且挡杆能够挡住玻璃，防止玻璃沿倾斜台面滑到清洗槽中。
- 玻璃清洗
- [实用新型]硅片清洗台-CN201621361391.0有效
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朱亚文;赵阿强
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重庆长捷电子有限公司
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2016-12-12
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2017-07-14
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B08B3/12
- 本实用新型公开了一种硅片清洗台，包括工作台，所述工作台上从右向左依次固定设有第一超声波清洗槽、第一冲水槽、第二超声波清洗槽、第三超声波清洗槽和第二冲水槽，所述第一超声波清洗槽和第二超声波清洗槽开口的后侧均通有热水管，所述第三超声波清洗槽开口的后侧通有冷水管，该第一超声波清洗槽、第二超声波清洗槽和第三超声波清洗槽的前侧下部均通有出水管，所述第一冲水槽和第二冲水槽的前侧均通有进水管，该第一冲水槽和第二冲水槽的后侧底部均设有排水管本实用新型一种硅片清洗台，能对硅片有序的清洗，且工作环境干净、干燥。
- 硅片清洗
- [实用新型]陶瓷清洗台-CN202221172074.X有效
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仲剑
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苏州珂玛材料科技股份有限公司
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2022-05-16
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2022-11-08
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B08B3/04
- 本实用新型涉及陶瓷板清洗装置技术领域。本实用新型公开了一种陶瓷清洗台，包括工作台面和至少一组垫高组件；所述工作台面被设置为平面状，所有的所述垫高组件均设置在所述工作台面上；任一组所述垫高组件包括至少两个垫高部件；在任一组垫高组件内，至少其中两个垫高部件之间的间距被设置为可调节的间距可调节间距的两个垫高部件分别为第一垫高部件和第二垫高部件，将第一垫高部件和第二垫高部件相互远离，使得陶瓷板与第一垫高部件和第二垫高部件的接触面积逐渐减小，陶瓷板上下表面的压力差也逐渐减小，便于将陶瓷板取下，即解决了清洗后的陶瓷板与陶瓷清洗台难以分离的技术问题
- 陶瓷清洗
- [实用新型]晶片清洗台-CN202320204792.9有效
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李兆文;李兆彩
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上犹县文丰电子科技有限公司
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2023-02-14
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2023-06-02
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H01L21/67
- 本申请公开了晶片清洗台，涉及晶片清洗技术领域。本申请包括清洗箱，所述清洗箱上自上而下依次安装有风干管、冲洗管、供液管和排液管，所述清洗箱内底部安装有超声波发生器，所述清洗箱的一侧构造有进出通道，所述清洗箱上安装有气动推杆，所述气动推杆活塞杆位于清洗箱内，且安装有定位架，所述定位架上可拆卸连接有晶片框，晶片框随定位架在清洗箱内上下运动。本申请整个清洗装置集成化程度高，将两次药液清洗、冲洗以及风干集合在一起，这样不需要多次的转移和夹持晶片框，一次性完成晶片的清洗工作，可有效的节约单批次晶片清洗所需要的时间，提高了清洗速度，且能耗小于现有流水线式清洗设备，因此适合少量晶片清洗作业。
- 晶片清洗
- [实用新型]底片清洗台-CN201020203669.8无效
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陶铸;李存英
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深南电路有限公司
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2010-05-26
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2011-03-30
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G03F7/20
- 本实用新型公开了一种曝光设备底片清洗台，包括台柱和第一台面，还包括曝光盘安装座、第二台面和第三台面，第二台面位于第一台面和第三台面之间，曝光盘安装座包括上座和下座，上座位于第一台面的下表面上，下座位于第三台面的上表面上有益效果是：具有清洁台面的第一台面，存放辅助工具的第二台面，存放曝光盘的曝光盘安装座。通过这样的设置可以释放清洁台面的空间，并且归纳整理曝光盘，避免曝光盘划伤。
- 底片清洗
- [实用新型]一种多功能婴儿护理尿布台-CN202221038022.3有效
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全明圆
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温州科威实业有限公司
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2022-04-28
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2022-09-23
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A47D13/00
- 本实用新型公开了一种多功能婴儿护理尿布台，包括用于婴儿护理的尿布台，所述尿布台的一端部滑动设置有用于婴幼儿清洗的清洗台；所述尿布台的两侧板均设有供清洗台滑动的滑槽；所述清洗台包括清洗盆和滑动板，所述滑动板的一端部开设有用于安装清洗盆的安装孔，另一端部滑动设置于滑槽内；所述滑动板朝向尿布台一端滑动将清洗盆收纳于尿布台的下方；给婴幼儿换尿布时，可先从尿布台的滑槽将清洗台拉出，使清洗台置于尿布台的一端，将清洗台上的清洗盆用于婴幼儿清洗；完成清洗后，再让婴幼儿躺在尿布台上进行尿布更换，操作简单、方便；集尿布台与清洗台于一体，便于婴幼儿护理操作，可将清洗台隐藏于尿布台下方节省产品占用空间。
- 一种多功能婴儿护理尿布
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